Sistema per la preparativa del campione SEM e EBSD con tecnologia Ion beam.
- Doppia sorgente ionica
- Rapido assottigliamento del campione (con sorgente ad alta o altissima energia fino a 10000 0 20000 eV)
- Pulizia e lucidatura senza danni (con sorgente a bassa energia 100 – 2000 eV)
- Funzionamento automatico
Sistema per la preparativa del campione SEM e EBSD con tecnologia Ion beam.
- Doppia sorgente ionica
- Rapido assottigliamento del campione (con sorgente ad alta o altissima energia fino a 10000 0 20000 eV)
- Pulizia e lucidatura senza danni (con sorgente a bassa energia 100 – 2000 eV)
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