Misura della Contaminazione Elementale su punti specifici o attraverso la mappatura totale del Wafer.
La Fluorescenza di Raggi X a Riflessione Totale (TXRF) è utilizzata per misurare la contaminazione in tutti i processi fab, compresa la pulizia, litografia, incisione, film ecc. e rappresenta quindi uno strumento indispensabile per lo studio dei materiali e lo sviluppo di dispositivi per la produzione di semiconduttori.