Il sistema infatti utilizza sia la colonna ionica OrageTM al Ga, la più precisa e ad alta risoluzione attualmente disponibile, sia la colonna elettronica TriglavTM di ultra alta risoluzione.
Le caratteristiche tecniche di queste due colonne permettono il raggiungimento delle più elevate risoluzioni possibili richieste nei processi di prototipazione di dispositivi nanometrici e la fabbricazione di lamelle TEM di spessori estremamente sottili, fino a 10nm.